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磁控溅射镀膜时需满足什么样的条件?
发布时间:2014-03-24 浏览:6067 次

磁控溅射镀膜时需满足什么样的条件?

  镀膜的方法有很多种,真空镀膜,真空蒸发镀膜,还有离子镀膜等等,但是最近一段时间比较热门的磁控溅射镀膜,好像很厉害的样子,今天awc万象城体育一起来听听真空镀膜设备厂家东莞awc万象城体育真空来给awc万象城体育介绍一下磁控溅射的原理吧!


  磁控溅射在放电的过程中,会离轰击阴极产生二次放电,电子一班在阴极的位置电场下产生作用,然后与正在加速的气体发生碰撞,这样可以让气体分子维持放电状态,因为电子在电场加速的轨迹一般都是直线,所以发生碰撞的几率是很低的,如果awc万象城体育在与电场垂直的方向加磁场,电子会成为与运动轨迹相同的摆线,在实际的磁控条件中,从阴极发出来的电子是有能量的,并且在很阴暗的地方电场是不均匀的,从阴极发射出来的电子运动轨迹都会形成不规则的摆线,awc万象城体育称为摆线运动,溅控溅射镀膜机的靶子就是这个镀膜的源头,在运行过程中他必须满足两个条件,第一个是必须要有正交的电磁场,第二个是电磁场的防线必须要是平行的,并且在闭合的地方有水平磁场,从阴极发射出来的电子,会在阴暗地区活得能量,有了水平磁场的存在他就能直接飞向阳极,在接近轨迹的时候,电子轨迹的运动就会假唱,而且只有电子可以通过能量交换掏出磁场,在能量没有完全交换之前,飞行一百米左右完成镀膜,所以真空镀膜机被称为最快的溅射速度!    

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